梅州市定制紫外线石英杀菌灯厂家
发布时间:2023-02-28 00:41:24梅州市定制紫外线石英杀菌灯厂家
高纯度石英制品是半导体材料生产过程中的关键性辅助耗材,其中光掩膜基板主要的基础材料是高纯石英玻璃片,其石英玻璃基片前身是高品质石英锭。半导体产业技术门槛高,对石英制品的纯度及性能要求非常高,所以半导体用石英制品行业的技术水平也非常高。半导体设备制造商为了保证半导体的质量和性能,对石英玻璃供应商实施严格的资质认证,通过认证方可销售半导体石英原材料。美国、德国、日本等发达国家将这些高新技术与战略新兴产业的研究列为重*点,垄断了高*端石英产品生产技术,并限制产品和技术出口,为我国半导体企业的发展带来一些困难,但是同时也是一个发展机遇。结合国内外的发展趋势及我国石英产业存在的问题,包括“十三五”提出全*面加快战略性新兴产业的发展,所以要急需提升我国石英玻璃原材料的技术与装备水平、扩大电子信息产业用高*档石英玻璃原材料的产能,打破国外技术垄断,扭转当前主要依赖进口的局面。
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我国石英玻璃研究始于1957年,在中华人民共和国成立之前是空白。1956年国家制定12年科技发展规划,要求发展国防急需的57项重要研究任务,解决二弹一星用的新型高性能材料,为研究原子弹、导弹、人造卫星做好物质准备。石英玻璃是第26项和第40项任务书中指定要研究的内容,任务是下达给当时的国家建筑材料综合研究所。我国石英玻璃的发展大体可分为5个阶段:1957—1961年为开创阶段,以研究工艺制造方法为主;1962—1966年为形成产业阶段,在此期间完成很多军工任务,民品产量和质量也有很大提高,已初步形成产业;1978—1988年为改革创新时期,高新技术用石英玻璃,如:大规模集成电路用高纯耐高温石英玻璃管、高纯涂层坩埚、电弧法坩埚、光通信用石英玻璃、激光用石英玻璃等都是这一时期研究并大量生产的;1989—2000年为引进国外先进技术、技术创新、增加品种和产量等大发展时期,*为突出的是东海县发展成为电光源用石英玻璃生产基地,年产石英玻璃达6000吨(其中优*质品2000余吨),质量*大的提高,成本几倍的下降,技术装备显著的改进。40余年来,石英玻璃的发展速度比较快,以生产透明石英玻璃管为例:1975年产量172吨,31个工厂需要用60多台电阻炉生产,管子质量很差(相当于现在的废品管),现在2台连熔炉就可以年生产近200吨,到2000年,透明石英玻璃管的年产量达7000吨(其中优*质产品达3500吨),25年增长了近40倍。
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石英是一种主要成分是二氧化硅的无机非金属矿物,是透明或半透明的晶体,一般为无色或乳白色,质地坚硬,常含有少量杂质成分。当杂质较少时,石英呈现透明的晶体状(即天然水晶),而当杂质较多时,透明度则会降低。石英是地球表面分布*广的矿物之二其物理性质和化学性质均十分稳定是生产石英砂的原料,常用的石英矿石通常称为硅石。石英玻璃是由二氧化硅单一组分构成的特种工业技术玻璃,拥有优越的物理、化学性能,综合性能属于玻璃材料之*,被称为“玻璃王”,被广泛用于光源、电子、光通讯、光伏、仪表、激光、航天核技术和国防等领域。普通石英玻璃就是用天然水晶或硅石作原料经高温熔制而成;而还有一种高纯优*质石英玻璃,则使用无机或有机含硅的液体化合物如四氯化硅经火焰水解合成工艺制成,称为合成石英玻璃。石英玻璃的热膨胀系数*小,能承受剧烈的温度变化,将石英玻璃加热至1100℃左右,放入常温水中也不会炸裂。石英玻璃在紫外线到红外线的整个光谱波段都有较好的透光性能,可见光透过率在百分之九十三以上,特别是在紫外光谱区,透过率可达80以上。石英玻璃的电阻值相当于普通玻璃的一万倍,是很好的电绝缘材料,即使在高温下也具有良好的绝缘性能。石英玻璃的软化点温度约1730℃,可在1100℃下长时间使用,短时间使用温度可达1450℃除氢氟酸外,石英玻璃几乎不与其他酸类物质发生化学反应,其耐酸能力是陶瓷的30倍,不锈钢的150倍,尤其是在高温下的化学稳定性,是其他任何工程材料都无法比拟的。
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中国建筑材料研究总院教授级高工石新勇、陈璐、王睿、吴洁、孙云蓉等专家撰写的《我国工业玻璃与特种玻璃标准体系现状分析及展望》文章指出:我国石英玻璃标准现状,该领域共有29项标准,产品标准20项(国家标准1项),方法标准9项(国家标准5项),另有4项新产品标准列入2008年行业标准制订计划。2008年是石英玻璃标准复审的高峰期,有12项标准得到修订。随着我国经济的快速发展,一些玻璃新品种、新技术已经形成和正在进行产业化,资源再生利用、节约能源、保护环境方面的产品日新月异,我国已开始对低温喷涂玻璃、无铅封接玻璃、防微波辐射玻璃、电磁屏蔽玻璃等产品进行科研研究和应用推广,计划根据进展情况,尽快将成熟的产品纳入标准。新产品的纳标,能够优化我国工业玻璃与特种玻璃品种结构。石英玻璃器件有三大类:第一类是石英玻璃仪器,有分馏提纯塔、纯水蒸馏塔、半导体工业用扩散管、试剂提纯设备、蒸发器等;第二类是石英玻璃器皿容器。品种和规格有几百种,用途很广,从化验室到半导体集成电路生产都要大量使用。第三类是石英玻璃型材,有板、片、法兰、棒、棍、杆等,主要用于大型芯片加工的单片机石英材料、光刻基片、光电显示器板、光纤拉丝用支撑杆等。石英玻璃器件产品占石英玻璃工业总产值的1/3以上。近年来石英玻璃行业在生产工艺技术装备,质量都有极大的提高。在石英玻璃器件加工方面有突出进步,在发展太阳能电池用石英器件方面有突破性进展,受到国内生产太阳能电池的大型企业、公司等先进企业确认,生产的石英器件完全满足要求,产品质量已达到国际先进水平。从相关产业的发展来看,我国石英玻璃仍将保持年平均15%~20%的增长速度。信息产业用石英玻璃的增长速度仍大于电光源用石英玻璃。
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目前传统的石英制备方法有电熔法、气炼法、直接合成法、间接合成法、等离子化学气相沉积和溶胶凝胶法等。其中电熔和气炼方法是指使用天然结晶石英(水晶或者纯的硅石)经过熔融制成石英;而剩余四种均为合成法,是通过硅化物(SiCl4)经过化学气相沉积制成石英。石英因制备方法的不同,在SiO2纯度、羟基含量等指标上表现不同,从而导致不同的材料特性。电熔法即是石英原料在真空(5×10-2mmHg)或低压惰性(N2)介质中电熔。气炼法是采用氢氧焰或其它碳氢化物(乙炔)等可燃气体产生高热来熔化物料。由于是水解过程制备,石英含有较多的水分,羟基(OH-)大约为500-1500ppm,并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在,玻璃的耐热性变差,且对红外区域吸收能力较强,该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在,玻璃的紫外光透过率高,且能长时间的接受紫外激光的照射,所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。间接合成使用的原料也是SiCl4,H2和O2气体,但该方法先让SiO2微粒堆积成棒,所得的棒为多孔质且不透明结构,经烧结后可制成透明的玻璃棒。等离子法也是合成不含-OH的石英的方法之一。利用由高频电磁场的感应耦合作用而产生等离子体灯炬,内核温度高达15000K,熔料被融化。
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范围:本标准适用于拉制太阳能单晶用的石英玻璃坩埚的要求,检验规则及标志、包装、运输和贮存。术语和定义:下列术语和定义适用于本标准。裂纹坩埚表面能发现出来的裂纹或微细裂纹。划伤内表面能看见的划伤。附着物附着在坩埚表面上的任何物质。表面沾污内外表面的不干净膜、变色、喷溅、指纹等。杂质石英玻璃组成中二氧化硅(SiO2)以外的组分。凹坑坩埚内表面呈现的凹坑。崩边坩埚边沿的缺口或伤疤。气泡表面存在的开口泡或夹层里存在的气泡。气泡群坩埚壁厚内密集着2个以上的气泡,气泡间距不超过气泡直径的5倍。