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清洗槽内如有氢氟酸溶液，需要在溶液不脏的时候可再加10瓶氢氟酸往里灌入；如氢氟酸溶液非常脏，那么需要先排空并洗干净槽部，槽没有的氢氟酸溶液的洗净槽后进行配液。清洁时注意戴好护目镜及防酸手套护具，把要清洗的石英管放入石英管清洗机里面的槽管口方向朝制绒间它的管尾部向扩散炉的方向。拉下机器防护门，清洗时间定为30分钟即可，之后按下启动键开始清洁。清洗时间到了以后戴上护目镜戴上防酸手套再从酸槽中取出石英管轻轻放到水槽，水槽的水排空再用水枪冲洗石英管内外均匀喷至4分钟左右，冲洗石英管里面时不要按启动键，如果是启动状态请立即关闭。用水枪清洗石英管管口要从内向尾部方向冲洗石英管的内壁一定要认真仔细的操作清洗干净不留残渣。每隔两分钟石英管旋转180度冲洗后再次旋转直到完全清洗干净为止。往水槽里加水水位没过石英管尾中间部分即可水槽清洗时间在30分钟左右即可。时间到了以后要把水槽内的水排干净。然后接着重复上面方法冲洗操作一定要没有任何残留物质颗粒清洗干净。再用泡沫纸包住管口管尾用铝箔堵住密封好即可。比较新的石英管清洗30分钟左右就行那么是用过的石英管则因将管内壁上沾附的白色的五氧化二磷完全脱落才可以。用过的管子清洗时间有的要一两天才可以。酸槽机器没有启动的时候隔两小时要把石英管旋转180度这样操作会清洁的更加均匀干净。

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中国建筑材料研究总院教授级高工石新勇、陈璐、王睿、吴洁、孙云蓉等专家撰写的《我国工业玻璃与特种玻璃标准体系现状分析及展望》文章指出：我国石英玻璃标准现状，该领域共有29项标准，产品标准20项(国家标准1项)，方法标准9项(国家标准5项)，另有4项新产品标准列入2008年行业标准制订计划。2008年是石英玻璃标准复审的高峰期，有12项标准得到修订。随着我国经济的快速发展，一些玻璃新品种、新技术已经形成和正在进行产业化，资源再生利用、节约能源、保护环境方面的产品日新月异，我国已开始对低温喷涂玻璃、无铅封接玻璃、防微波辐射玻璃、电磁屏蔽玻璃等产品进行科研研究和应用推广，计划根据进展情况，尽快将成熟的产品纳入标准。新产品的纳标，能够优化我国工业玻璃与特种玻璃品种结构。石英玻璃器件有三大类：第一类是石英玻璃仪器，有分馏提纯塔、纯水蒸馏塔、半导体工业用扩散管、试剂提纯设备、蒸发器等;第二类是石英玻璃器皿容器。品种和规格有几百种，用途很广，从化验室到半导体集成电路生产都要大量使用。第三类是石英玻璃型材，有板、片、法兰、棒、棍、杆等，主要用于大型芯片加工的单片机石英材料、光刻基片、光电显示器板、光纤拉丝用支撑杆等。石英玻璃器件产品占石英玻璃工业总产值的1/3以上。近年来石英玻璃行业在生产工艺技术装备，质量都有极大的提高。在石英玻璃器件加工方面有突出进步，在发展太阳能电池用石英器件方面有突破性进展，受到国内生产太阳能电池的大型企业、公司等先进企业确认，生产的石英器件完全满足要求，产品质量已达到国际先进水平。从相关产业的发展来看，我国石英玻璃仍将保持年平均15％～20％的增长速度。信息产业用石英玻璃的增长速度仍大于电光源用石英玻璃。

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目前石英玻璃需求量*大的是半导体行业和光纤通讯产业。国内光纤行业用石英制品主要作为石英辅助材料，如光纤预制棒，把持棒，手柄等，这些产品相对偏中低端，价格相对也偏低。国内制作能满足内需，然而像基管、套管等高*端石英制品的年产量还是很低，仍需要大量进口。整个光纤行业快速发展、技术越来越成熟，光纤预制棒的国产化比例逐步提高。依据这个趋势和国家政府的扶持，光纤行业的发展还会更上一层楼，石英制品也会紧跟着其在技术和质量上的发展得到进一步的提升。

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近些年来，由于我国不断加大对电子信息产业的发展力度，同时也促进了石英玻璃市场需求量的迅速增长。在微电子领域，对消耗性的关键材料石英玻璃扩散管、坩埚、仪器器皿等石英制品的需求正与日俱增。4英寸～8英寸电路用石英扩散管的需求量在“十一五”时期达到了2万支/年;8英寸～12英寸也大幅度增加。石英坩埚按生产硅单晶的级别分为电子级和太阳能级。2004年硅单晶产量为1725吨，太阳能电池硅单晶约占58％，市场年增长率为27.5％，坩埚的年产量已超过10万只，市场占有率不断提高。国内光纤市场以每年12％速度递增。2004年沉积管和套管的需求量为300吨，国内仅能生产20吨。我国电光源石英玻璃生产企业已有40多家，拥有连熔炉近100多台，“十一五”期间的市场平均增长率在20％左右，石英管的总产量约53500吨。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法的热能是被充分利用的，其生产过程没有反复升降温的现象，因此可以节能，而且节能的数字是相当可观的。采用传统的单项生产法生产多晶硅，还原料从鼓泡器里出来后被送进还原炉。在炉内还原料被加热到1150～1250℃，发生了氢还原反应，生成多晶硅。采用这种生产法，进入还原炉的还原料只有少数(一般认为10％～20％)参加反应，生成了多晶硅，绝大多数被当作尾气排放了。初，这些尾气被当成废气放掉，造成极大的浪费。为避免浪费，人们把尾气中的氢气和四氯化硅回收，经净化提纯后再利用。这样一来，出来的高温料，进入由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统回收。在回收系统里，还原料被冷冻降温至四氯化硅的沸点(57．6。C)之下，一般认为应在40～38℃为好。如按还原料在还原炉里的低限温度1150℃，降温后的上限温度40。C计算，也要降温1100℃。问题是，回收后4()℃的常温还原料要重新被送入鼓泡器里，然后通进还原炉，再次被加热到11501250。C的高温。从上述工艺中可以看出，进入还原炉被加热的大部分还原料(占进炉料9()％)没有被利用就被送出降温，而且降温后又被重新送入还原炉成为参加新一轮反应的还原料。很明显，这是一种浪费，没有参加反应的还原料按理说应该不加热。可问题是，在还原炉里，没有参加反应的还原料与参加反应的还原料是混在一起的，根本无法分开，如果没有参加反应的还原料不加热，那么，参加反应的还原料也无法加热。我们知道，参加反应的还原料温度低是无法进行化学反应的，也就无法生产出多晶硅。所以，如果采用传统的单项生产法生产多晶硅的话，上述浪费是不可避免的。

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范围：本标准适用于拉制太阳能单晶用的石英玻璃坩埚的要求，检验规则及标志、包装、运输和贮存。术语和定义：下列术语和定义适用于本标准。裂纹坩埚表面能发现出来的裂纹或微细裂纹。划伤内表面能看见的划伤。附着物附着在坩埚表面上的任何物质。表面沾污内外表面的不干净膜、变色、喷溅、指纹等。杂质石英玻璃组成中二氧化硅(SiO2)以外的组分。凹坑坩埚内表面呈现的凹坑。崩边坩埚边沿的缺口或伤疤。气泡表面存在的开口泡或夹层里存在的气泡。气泡群坩埚壁厚内密集着2个以上的气泡,气泡间距不超过气泡直径的5倍。