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清洗槽内如有氢氟酸溶液，需要在溶液不脏的时候可再加10瓶氢氟酸往里灌入；如氢氟酸溶液非常脏，那么需要先排空并洗干净槽部，槽没有的氢氟酸溶液的洗净槽后进行配液。清洁时注意戴好护目镜及防酸手套护具，把要清洗的石英管放入石英管清洗机里面的槽管口方向朝制绒间它的管尾部向扩散炉的方向。拉下机器防护门，清洗时间定为30分钟即可，之后按下启动键开始清洁。清洗时间到了以后戴上护目镜戴上防酸手套再从酸槽中取出石英管轻轻放到水槽，水槽的水排空再用水枪冲洗石英管内外均匀喷至4分钟左右，冲洗石英管里面时不要按启动键，如果是启动状态请立即关闭。用水枪清洗石英管管口要从内向尾部方向冲洗石英管的内壁一定要认真仔细的操作清洗干净不留残渣。每隔两分钟石英管旋转180度冲洗后再次旋转直到完全清洗干净为止。往水槽里加水水位没过石英管尾中间部分即可水槽清洗时间在30分钟左右即可。时间到了以后要把水槽内的水排干净。然后接着重复上面方法冲洗操作一定要没有任何残留物质颗粒清洗干净。再用泡沫纸包住管口管尾用铝箔堵住密封好即可。比较新的石英管清洗30分钟左右就行那么是用过的石英管则因将管内壁上沾附的白色的五氧化二磷完全脱落才可以。用过的管子清洗时间有的要一两天才可以。酸槽机器没有启动的时候隔两小时要把石英管旋转180度这样操作会清洁的更加均匀干净。

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目前传统的石英制备方法有电熔法、气炼法、直接合成法、间接合成法、等离子化学气相沉积和溶胶凝胶法等。其中电熔和气炼方法是指使用天然结晶石英（水晶或者纯的硅石）经过熔融制成石英；而剩余四种均为合成法，是通过硅化物（SiCl4）经过化学气相沉积制成石英。石英因制备方法的不同，在SiO2纯度、羟基含量等指标上表现不同，从而导致不同的材料特性。电熔法即是石英原料在真空（5×10－2mmHg）或低压惰性（N2）介质中电熔。气炼法是采用氢氧焰或其它碳氢化物（乙炔）等可燃气体产生高热来熔化物料。由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。间接合成使用的原料也是SiCl4，H2和O2气体，但该方法先让SiO2微粒堆积成棒，所得的棒为多孔质且不透明结构，经烧结后可制成透明的玻璃棒。等离子法也是合成不含-OH的石英的方法之一。利用由高频电磁场的感应耦合作用而产生等离子体灯炬，内核温度高达15000K，熔料被融化。

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1 、石英管软化的软化点为1270度，在1200度使用时不要超过3小时。2 、本管式炉一般情况下不建议客户通氢气，除通非氢气含量在*限爆炸浓度以外，如果客户需要用管式炉通浓度在爆炸浓度以外的氢气，一定要做好安*全措施，通气体时炉管两端不要站人，如果通氢气请采用不锈钢管，由于不锈钢的热传导系数比石英大，因此不锈钢两端需要水冷，否则O型圈温度过高无法密封， 3、 保持炉管内清洁卫生，炉管内不能残留与SiO2反应的物质，烧物料时，为了使炉管的使用寿命更长，不要直接把物料放在炉管上，用舟型坩埚盛着（如下图所示）。4 、加热时炉管内请务必放陶瓷炉塞，否则炉管两端温度较高，法兰里的O型圈无法承受较高的温度，使得气密性不好，放炉塞与炉子的两端有利于形成均衡的温场。 5 、加热时炉管内请务必放氧化铝炉塞，一边放2个，共4个，两边炉塞zui里端距离可以在450mm左右（因为HTL1200对开式管式炉的加热段长度为400mm），如果不放炉塞，炉管两端温度较高，法兰里的O型圈无法承受较高的温度，使得气密性不好，炉管两端放上炉塞有利于形成均衡的温场。6 、石英管的耐温度与其纯度有关系，纯度越高，耐温就越高。

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熔融石英和熔凝石英的纯度非常高，合成石英的金属含量小于1ppm。熔凝石英杂质接近20ppm，主要污染物组成AL2O3，少部分碱金属，Fe2O3 TiO2 mGo ZrO2金属杂质主要来自于天然石英，非常谨慎的控制加工过程，可以*大的降低杂质含量，从200ppm 到 20ppm铝是*多的杂质，取代硅原子，在石英玻璃里存在。在高温条件下，他具有很低的活性，导致在任何生产阶段都不可能去除。除了有金属杂质，熔融石英和熔凝石英也包含一些水分羟基，羟基进入石英的网格中会降低石英的粘性，因此价格低石英的耐温点。其他的物理特性也会受到影响，如光的透过率，红外波段形成吸收带每一种工艺的都有其典型的羟基含量电熔羟基值*低1-30ppm 因为在真空条件下榕湖或者在负气压条件下熔化。退火时，湿度也可以影响羟基含量气炼石英含有大量的羟基，因为气炼石英使用氢氧焰熔化合成石英是通过火焰水解化学物质羟基含量大于1000ppm降低合成石英的羟基可以通过高温氯化处理。

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含有硼、硅、磷、氟、砷、硒等非金属和含有钾、钠、钙、镁、锌、镉、铯、钇、锑、铋等金属的有机物在分析过程中，生成的氧化物、酸、碱、盐、微尘类物质会损害石英管，量小造成石英管的腐蚀，量大则直接导致石英管的破裂，有许多还毒化管内催化剂。因此在做这类物质分析时，应该更换陶瓷或不锈钢灰分管以保护石英反应管，并在反应管内填充或样品上覆盖相应的氧化吸收剂，防止其副反应发生。如含氟样品可在反应管内填充氧化镁、银盐、红铅类催化剂；含硅样品上可覆盖氧化钨和氧化铬或氧化铜粉末；含碱金属、碱土金属的样品，可覆盖五氧化二钒和三氧化钨等催化剂，还可根据副反应发生的类型和过程添加多种氧化剂的混合物。碱性样品严重损害石英管，建议更换不锈钢反应管。分析一些在使用温度下熔融的物质，量大时会粘附于石英管上，降温时两者的膨胀系数不同，致使石英管破裂，这类样品若未采取相应措施，慎做！爆炸性化学品分析时其剧烈反应瞬间产生的高热和冲击力会令石英管炸裂，这类样品若无保护性措施，勿做！

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高纯度石英制品是半导体材料生产过程中的关键性辅助耗材，其中光掩膜基板主要的基础材料是高纯石英玻璃片，其石英玻璃基片前身是高品质石英锭。半导体产业技术门槛高，对石英制品的纯度及性能要求非常高，所以半导体用石英制品行业的技术水平也非常高。半导体设备制造商为了保证半导体的质量和性能，对石英玻璃供应商实施严格的资质认证，通过认证方可销售半导体石英原材料。美国、德国、日本等发达国家将这些高新技术与战略新兴产业的研究列为重*点，垄断了高*端石英产品生产技术，并限制产品和技术出口，为我国半导体企业的发展带来一些困难，但是同时也是一个发展机遇。结合国内外的发展趋势及我国石英产业存在的问题，包括“十三五”提出全*面加快战略性新兴产业的发展，所以要急需提升我国石英玻璃原材料的技术与装备水平、扩大电子信息产业用高*档石英玻璃原材料的产能，打破国外技术垄断，扭转当前主要依赖进口的局面。