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石英玻璃的结构十分松弛，甚至在高温下还允许某些气体的离子通过网络进行扩散，其中以钠离子的扩散为*快。石英玻璃的这一性能对于使用者尤为重要，例如，半导体工业用石英玻璃作为高温容器或扩散管时，由于半导体材料要求很高的纯度，所以要求与石英玻璃接触的作为炉衬的耐火材料必*须预先经过高温和清洁处理，除掉钾、钠等碱性杂质，然后才能放入石英玻璃内使用。石英玻璃的光学性能有其独到之处，它既可以透过远紫外光谱，是所有透紫外材料*优者，又可透过可见光和近红外光谱。用户可以根据需要，从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于石英玻璃耐高温，热膨胀系数*小，化学热稳定性好，气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美，所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。石英玻璃的结构，杂质含量，OH基因及NO、CO等含量是影响光谱透过率的主要因素，氧原子结合不良在0.24μ处则有吸收峰，含有OH基团的石英玻璃，在2.7μ处由于分子振动将产生明显的吸收峰，紫外透过率低主要是由于金属杂质多造成原子吸收光谱所致。 石英玻璃的光谱特性曲线 电熔石英玻璃是很好的透红外材料，但由于杂质的存在，紫外透过率低。氢氧焰熔制水晶所获得的石英玻璃，由于氧结构缺陷，在0.24μ处有吸收峰，同时含有OH基团，所以红外透过*低。用合成原料气炼的高纯光学石英玻璃是*好的透紫外材料，但在2.7μ处有严重的OH吸收峰。只有用合成原料通过电熔或无氢火焰熔融而成的光学石英玻璃，才能很好地透过从远紫外到近红外的连续光谱。石英玻璃的热膨胀系数小，为5.5×10-7/℃，只有普通玻璃的1/12～1/20.标准规定将试样灼烧到1200℃后急速投到冷水中，反复三次以上不允许炸裂。石英玻璃加入适量钛元素后还可做成零膨胀系数的材料，在激光技术、天文和尖*端技术中。

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石英玻璃*早起源于国外，至今已有一百六十多年的历史，1839 年法国人首先用氢氧燃烧火焰熔化石英矿石制造石英制品，1902 年英国人用石墨棒通电获得高温制造石英制品，但直到二十世纪 50 年代，随着半导体技术和石英电光源产品（石英管为其泡壳材料）的发展，石英玻璃材料及制品行业才迅速发展起来。我国石英制品工业起步较晚，基础薄弱，产品主要作为工业用基础性材料，然而近年来由于电子信息等高科技行业对石英材料的高度需求，石英玻璃材料及制品行业也迎来了新的发展空间和机遇。伴随着国外先进技术及设备的引进以及自主研发，我国石英玻璃材料及制品行业在石英制品工艺、设备制造方面均得到大幅提升，正逐渐从能源和劳动密集型行业向技术密集型、资金密集型方向转变。但与西方发达国家同行相比，仍处于技术发展实力整体薄弱，具有*强发展潜力阶段。近年来，受到下游光源、光伏、光纤半导体（电子信息）等三大应用领域快速发展需求的拉动，行业进步态势明显。

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范围：本标准适用于拉制太阳能单晶用的石英玻璃坩埚的要求，检验规则及标志、包装、运输和贮存。术语和定义：下列术语和定义适用于本标准。裂纹坩埚表面能发现出来的裂纹或微细裂纹。划伤内表面能看见的划伤。附着物附着在坩埚表面上的任何物质。表面沾污内外表面的不干净膜、变色、喷溅、指纹等。杂质石英玻璃组成中二氧化硅(SiO2)以外的组分。凹坑坩埚内表面呈现的凹坑。崩边坩埚边沿的缺口或伤疤。气泡表面存在的开口泡或夹层里存在的气泡。气泡群坩埚壁厚内密集着2个以上的气泡,气泡间距不超过气泡直径的5倍。

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熔凝石英可以耐受绝大部分液体（金属，溶液和酸）。氢氟酸和磷酸可以腐蚀熔凝石英。石英玻璃可以和碱金属和碱土金属反应，因为在升温阶段，碱金属和间土金属可以促进失透石英玻璃是由非常纯的二氧化硅组成的。这个链上的其他元素成为杂质。虽然这些杂质成分所占的百分比非常低，但是这些杂质对石英玻璃产生重要的影响。纯度是由所使用的原料决定的。污染物的产生主要来源于生产方式，处理过程。生产过程每一个阶段都应该预防污染，这样才能确保纯度。*普遍的杂质是金属，如：铝 钠 铁 和其他，水，氯这些杂质元素主要在玻璃网格内，并且影响粘性光谱吸收电特性。他们也会影响原料的特征。