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熔凝石英可以耐受绝大部分液体（金属，溶液和酸）。氢氟酸和磷酸可以腐蚀熔凝石英。石英玻璃可以和碱金属和碱土金属反应，因为在升温阶段，碱金属和间土金属可以促进失透石英玻璃是由非常纯的二氧化硅组成的。这个链上的其他元素成为杂质。虽然这些杂质成分所占的百分比非常低，但是这些杂质对石英玻璃产生重要的影响。纯度是由所使用的原料决定的。污染物的产生主要来源于生产方式，处理过程。生产过程每一个阶段都应该预防污染，这样才能确保纯度。*普遍的杂质是金属，如：铝 钠 铁 和其他，水，氯这些杂质元素主要在玻璃网格内，并且影响粘性光谱吸收电特性。他们也会影响原料的特征。

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高纯度石英制品是半导体材料生产过程中的关键性辅助耗材，其中光掩膜基板主要的基础材料是高纯石英玻璃片，其石英玻璃基片前身是高品质石英锭。半导体产业技术门槛高，对石英制品的纯度及性能要求非常高，所以半导体用石英制品行业的技术水平也非常高。半导体设备制造商为了保证半导体的质量和性能，对石英玻璃供应商实施严格的资质认证，通过认证方可销售半导体石英原材料。美国、德国、日本等发达国家将这些高新技术与战略新兴产业的研究列为重*点，垄断了高*端石英产品生产技术，并限制产品和技术出口，为我国半导体企业的发展带来一些困难，但是同时也是一个发展机遇。结合国内外的发展趋势及我国石英产业存在的问题，包括“十三五”提出全*面加快战略性新兴产业的发展，所以要急需提升我国石英玻璃原材料的技术与装备水平、扩大电子信息产业用高*档石英玻璃原材料的产能，打破国外技术垄断，扭转当前主要依赖进口的局面。

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清洗槽内如有氢氟酸溶液，需要在溶液不脏的时候可再加10瓶氢氟酸往里灌入；如氢氟酸溶液非常脏，那么需要先排空并洗干净槽部，槽没有的氢氟酸溶液的洗净槽后进行配液。清洁时注意戴好护目镜及防酸手套护具，把要清洗的石英管放入石英管清洗机里面的槽管口方向朝制绒间它的管尾部向扩散炉的方向。拉下机器防护门，清洗时间定为30分钟即可，之后按下启动键开始清洁。清洗时间到了以后戴上护目镜戴上防酸手套再从酸槽中取出石英管轻轻放到水槽，水槽的水排空再用水枪冲洗石英管内外均匀喷至4分钟左右，冲洗石英管里面时不要按启动键，如果是启动状态请立即关闭。用水枪清洗石英管管口要从内向尾部方向冲洗石英管的内壁一定要认真仔细的操作清洗干净不留残渣。每隔两分钟石英管旋转180度冲洗后再次旋转直到完全清洗干净为止。往水槽里加水水位没过石英管尾中间部分即可水槽清洗时间在30分钟左右即可。时间到了以后要把水槽内的水排干净。然后接着重复上面方法冲洗操作一定要没有任何残留物质颗粒清洗干净。再用泡沫纸包住管口管尾用铝箔堵住密封好即可。比较新的石英管清洗30分钟左右就行那么是用过的石英管则因将管内壁上沾附的白色的五氧化二磷完全脱落才可以。用过的管子清洗时间有的要一两天才可以。酸槽机器没有启动的时候隔两小时要把石英管旋转180度这样操作会清洁的更加均匀干净。

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石英玻璃的结构十分松弛，甚至在高温下还允许某些气体的离子通过网络进行扩散，其中以钠离子的扩散为*快。石英玻璃的这一性能对于使用者尤为重要，例如，半导体工业用石英玻璃作为高温容器或扩散管时，由于半导体材料要求很高的纯度，所以要求与石英玻璃接触的作为炉衬的耐火材料必*须预先经过高温和清洁处理，除掉钾、钠等碱性杂质，然后才能放入石英玻璃内使用。石英玻璃的光学性能有其独到之处，它既可以透过远紫外光谱，是所有透紫外材料*优者，又可透过可见光和近红外光谱。用户可以根据需要，从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于石英玻璃耐高温，热膨胀系数*小，化学热稳定性好，气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美，所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。石英玻璃的结构，杂质含量，OH基因及NO、CO等含量是影响光谱透过率的主要因素，氧原子结合不良在0.24μ处则有吸收峰，含有OH基团的石英玻璃，在2.7μ处由于分子振动将产生明显的吸收峰，紫外透过率低主要是由于金属杂质多造成原子吸收光谱所致。 石英玻璃的光谱特性曲线 电熔石英玻璃是很好的透红外材料，但由于杂质的存在，紫外透过率低。氢氧焰熔制水晶所获得的石英玻璃，由于氧结构缺陷，在0.24μ处有吸收峰，同时含有OH基团，所以红外透过*低。用合成原料气炼的高纯光学石英玻璃是*好的透紫外材料，但在2.7μ处有严重的OH吸收峰。只有用合成原料通过电熔或无氢火焰熔融而成的光学石英玻璃，才能很好地透过从远紫外到近红外的连续光谱。石英玻璃的热膨胀系数小，为5.5×10-7/℃，只有普通玻璃的1/12～1/20.标准规定将试样灼烧到1200℃后急速投到冷水中，反复三次以上不允许炸裂。石英玻璃加入适量钛元素后还可做成零膨胀系数的材料，在激光技术、天文和尖*端技术中。

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石英玻璃的机械性能比硬质玻璃和陶瓷都好，唯脆性较差。石英玻璃的理论计算强度很高，约为24×103MPa，但实际测得的强度要比这个数值低数十倍。影响强度的主要因素首先是玻璃的表面缺陷，特别是表面微裂纹的大小及深度影响*为明显，细磨的石英玻璃试样比粗磨的试样，其抗折强度约增加0.6倍；其次是内在缺陷，例如，气泡、杂质、熔化不均以及残余应力等。石英玻璃的强度随着温度的升高而增加，接近退火温度时达到*大值。石英玻璃的剪切模量、杨氏模量、阻尼、泊松比、破坏模量一般均随着温度的升高而增加，硬度则随着温度的升高而降低。

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装填氧化剂、还原剂、清灰和取出失效的催化剂（结块的氧化铜我们提供一手钻工具操作）时，需小心操作，勿碰撞石英管。装内封的管塞，密封圈上可涂一点高真空润滑脂（涂多了碳空白会高），装入时管塞与管口要垂直对正，缓慢旋转插入，取出时也应如此操作，否则易造成管子崩口。反应管装入仪器时应清除管上所有指印，避免形成结晶区域而引起石英过早老化。