南通市透明紫外线消毒灯定做

石英玻璃*早起源于国外，至今已有一百六十多年的历史，1839 年法国人首先用氢氧燃烧火焰熔化石英矿石制造石英制品，1902 年英国人用石墨棒通电获得高温制造石英制品，但直到二十世纪 50 年代，随着半导体技术和石英电光源产品（石英管为其泡壳材料）的发展，石英玻璃材料及制品行业才迅速发展起来。我国石英制品工业起步较晚，基础薄弱，产品主要作为工业用基础性材料，然而近年来由于电子信息等高科技行业对石英材料的高度需求，石英玻璃材料及制品行业也迎来了新的发展空间和机遇。伴随着国外先进技术及设备的引进以及自主研发，我国石英玻璃材料及制品行业在石英制品工艺、设备制造方面均得到大幅提升，正逐渐从能源和劳动密集型行业向技术密集型、资金密集型方向转变。但与西方发达国家同行相比，仍处于技术发展实力整体薄弱，具有*强发展潜力阶段。近年来，受到下游光源、光伏、光纤半导体（电子信息）等三大应用领域快速发展需求的拉动，行业进步态势明显。

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熔融石英和熔凝石英的纯度非常高，合成石英的金属含量小于1ppm。熔凝石英杂质接近20ppm，主要污染物组成AL2O3，少部分碱金属，Fe2O3 TiO2 mGo ZrO2金属杂质主要来自于天然石英，非常谨慎的控制加工过程，可以*大的降低杂质含量，从200ppm 到 20ppm铝是*多的杂质，取代硅原子，在石英玻璃里存在。在高温条件下，他具有很低的活性，导致在任何生产阶段都不可能去除。除了有金属杂质，熔融石英和熔凝石英也包含一些水分羟基，羟基进入石英的网格中会降低石英的粘性，因此价格低石英的耐温点。其他的物理特性也会受到影响，如光的透过率，红外波段形成吸收带每一种工艺的都有其典型的羟基含量电熔羟基值*低1-30ppm 因为在真空条件下榕湖或者在负气压条件下熔化。退火时，湿度也可以影响羟基含量气炼石英含有大量的羟基，因为气炼石英使用氢氧焰熔化合成石英是通过火焰水解化学物质羟基含量大于1000ppm降低合成石英的羟基可以通过高温氯化处理。

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范围：本标准适用于拉制太阳能单晶用的石英玻璃坩埚的要求，检验规则及标志、包装、运输和贮存。术语和定义：下列术语和定义适用于本标准。裂纹坩埚表面能发现出来的裂纹或微细裂纹。划伤内表面能看见的划伤。附着物附着在坩埚表面上的任何物质。表面沾污内外表面的不干净膜、变色、喷溅、指纹等。杂质石英玻璃组成中二氧化硅(SiO2)以外的组分。凹坑坩埚内表面呈现的凹坑。崩边坩埚边沿的缺口或伤疤。气泡表面存在的开口泡或夹层里存在的气泡。气泡群坩埚壁厚内密集着2个以上的气泡,气泡间距不超过气泡直径的5倍。

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1、石英是一种晶体，而玻璃则是非晶体。非晶体各向同性，而晶体的光学性能是具有方向性的，即有的方向折射率大，有的方向折射率小，这使得晶体材料不能用来作为光学材料来使用。玻璃是非晶体，而石英是晶体。非晶体各向同性，晶体的光学性能是有方向性的——有的方向折射率大，有的小——这就决定了晶体材料不能用来做光学材料。2、耐热程度不同。英管的软化点温度约1730℃，可在1100℃下长时间使用，短时间使用温度可高达1450℃ 除氢氟酸外，石英管几乎不与其他酸类物质发生化学反应，其耐酸能力是陶瓷的30倍，不锈钢的150倍，尤其是在高温下的化学稳定性，是其他任何工程材料都无法比拟的。石英玻璃的热膨胀系数*小，能承受剧烈的温度变化，将石英管加热至1100℃左右，放入常温水中也不会炸裂。玻璃管是普通玻璃做的，硬度、透明度，耐高温性、耐磨性都要差很多。3、电绝缘性能好。石英玻璃的电阻值相当于普通玻璃的一万倍，是非常好的电绝缘材料，即使在常温下也具有良好的电性能。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法的热能是被充分利用的，其生产过程没有反复升降温的现象，因此可以节能，而且节能的数字是相当可观的。采用传统的单项生产法生产多晶硅，还原料从鼓泡器里出来后被送进还原炉。在炉内还原料被加热到1150～1250℃，发生了氢还原反应，生成多晶硅。采用这种生产法，进入还原炉的还原料只有少数(一般认为10％～20％)参加反应，生成了多晶硅，绝大多数被当作尾气排放了。初，这些尾气被当成废气放掉，造成极大的浪费。为避免浪费，人们把尾气中的氢气和四氯化硅回收，经净化提纯后再利用。这样一来，出来的高温料，进入由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统回收。在回收系统里，还原料被冷冻降温至四氯化硅的沸点(57．6。C)之下，一般认为应在40～38℃为好。如按还原料在还原炉里的低限温度1150℃，降温后的上限温度40。C计算，也要降温1100℃。问题是，回收后4()℃的常温还原料要重新被送入鼓泡器里，然后通进还原炉，再次被加热到11501250。C的高温。从上述工艺中可以看出，进入还原炉被加热的大部分还原料(占进炉料9()％)没有被利用就被送出降温，而且降温后又被重新送入还原炉成为参加新一轮反应的还原料。很明显，这是一种浪费，没有参加反应的还原料按理说应该不加热。可问题是，在还原炉里，没有参加反应的还原料与参加反应的还原料是混在一起的，根本无法分开，如果没有参加反应的还原料不加热，那么，参加反应的还原料也无法加热。我们知道，参加反应的还原料温度低是无法进行化学反应的，也就无法生产出多晶硅。所以，如果采用传统的单项生产法生产多晶硅的话，上述浪费是不可避免的。