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近些年来，由于我国不断加大对电子信息产业的发展力度，同时也促进了石英玻璃市场需求量的迅速增长。在微电子领域，对消耗性的关键材料石英玻璃扩散管、坩埚、仪器器皿等石英制品的需求正与日俱增。4英寸～8英寸电路用石英扩散管的需求量在“十一五”时期达到了2万支/年;8英寸～12英寸也大幅度增加。石英坩埚按生产硅单晶的级别分为电子级和太阳能级。2004年硅单晶产量为1725吨，太阳能电池硅单晶约占58％，市场年增长率为27.5％，坩埚的年产量已超过10万只，市场占有率不断提高。国内光纤市场以每年12％速度递增。2004年沉积管和套管的需求量为300吨，国内仅能生产20吨。我国电光源石英玻璃生产企业已有40多家，拥有连熔炉近100多台，“十一五”期间的市场平均增长率在20％左右，石英管的总产量约53500吨。

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石英管基础的原料是石英玻璃，据了解，石英玻璃是二氧化硅单一成份的玻璃，通常分为透明石英玻璃和不透明石英玻璃（熔融石英）两大类。透明石英玻璃只有*少量气泡，有相当高的光学均匀性和透明度，由水晶或四氯化硅为原料，经高温熔制而成。石英玻璃的机械性能比硬质玻璃和陶瓷都好，直径不大的石英管及石英玻璃设备可耐很大的压力，石英玻璃制品中如有宏观缺陷，如气泡、外来杂物、熔化不均匀及存在的残余应力，都会影响其强度，使其降低。石英管主要是用于实验、观察、测量等，通常也可以用于特定用途的装置和机器。因为石英仪器通常用于科学研究和技术测量，所以需要有更加严格的生产技术，加上一起结构复杂，属于高新技术产品，所以在工业方面应用较多。另外石英仪器种类较多，根据形状、大小不同可以分为很多种。石英制品容易碎，所以在选择时要轻拿轻放，防止因为碰触导致破碎，虽然它的耐热性好，但是和其他物质一起使用需要考虑它的膨胀系数，否则就会破损。使用完毕之后要去离子水进行清洗，清洗之后严禁用手接触，否则就会失去石英仪器的高纯度性，影响其使用寿命。

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石英玻璃的机械性能比硬质玻璃和陶瓷都好，唯脆性较差。石英玻璃的理论计算强度很高，约为24×103MPa，但实际测得的强度要比这个数值低数十倍。影响强度的主要因素首先是玻璃的表面缺陷，特别是表面微裂纹的大小及深度影响*为明显，细磨的石英玻璃试样比粗磨的试样，其抗折强度约增加0.6倍；其次是内在缺陷，例如，气泡、杂质、熔化不均以及残余应力等。石英玻璃的强度随着温度的升高而增加，接近退火温度时达到*大值。石英玻璃的剪切模量、杨氏模量、阻尼、泊松比、破坏模量一般均随着温度的升高而增加，硬度则随着温度的升高而降低。

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目前传统的石英制备方法有电熔法、气炼法、直接合成法、间接合成法、等离子化学气相沉积和溶胶凝胶法等。其中电熔和气炼方法是指使用天然结晶石英（水晶或者纯的硅石）经过熔融制成石英；而剩余四种均为合成法，是通过硅化物（SiCl4）经过化学气相沉积制成石英。石英因制备方法的不同，在SiO2纯度、羟基含量等指标上表现不同，从而导致不同的材料特性。电熔法即是石英原料在真空（5×10－2mmHg）或低压惰性（N2）介质中电熔。气炼法是采用氢氧焰或其它碳氢化物（乙炔）等可燃气体产生高热来熔化物料。由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。间接合成使用的原料也是SiCl4，H2和O2气体，但该方法先让SiO2微粒堆积成棒，所得的棒为多孔质且不透明结构，经烧结后可制成透明的玻璃棒。等离子法也是合成不含-OH的石英的方法之一。利用由高频电磁场的感应耦合作用而产生等离子体灯炬，内核温度高达15000K，熔料被融化。