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多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产可以省掉一些设备，从而可以节约投资，并可减轻操作人员的劳动强度。采用传统的单项生产法生产多晶硅，需要有一台四氯化硅合成炉和一套四氯化硅提纯系统。采用传统的单项生产法生产石英玻璃，同样需要有一台四氯化硅合成炉和一套四氯化硅提纯系统。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产四氯化硅和多晶硅，上述设备是合一的，从设备数量上看，多晶硅和石英玻璃的联合制备法比传统的单项生产法减少一半。只是设备要大一些，但单个设备的投资增加不会太多。比如四氯化硅合成炉，它的直径加大一倍，它的产量就可以增加四倍。四氯化硅提纯系统里的设备也同样，尺寸增加一点，产量就会增加很多。采用传统的单项生产法生产多晶硅和采用传统的单项生产法生产石英玻璃都同样需要有一套由冷冻除湿、除氧、干燥组成的氢气净化系统和一个鼓泡器。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产，这些设备也是合一的。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产比单项生产法节省多的地方还不在于此。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产比单项生产法节省多的地方还不在于此。采用传统的单项生产法生产多晶硅，需要一套由冷冻分离器和氢气回收系统组成的回收系统，而采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产就不需要这套回收系统。这套系统是由科技含量高、造价高的成套设备组成的。我们知道，家用的冰箱的低温只有摄氏零下十几度，一般的冷库的低温也只有摄氏零下三十几度，可这套系统所用的冷冻温度要到摄氏零下八十几度，甚至更低；家用的冰箱只是单级压缩，要求深冷的冷库也只有双级压缩，而这套系统所用的冷冻机是复叠式的，是在双级之上再加了一级压缩的，而且组合方式也是特别的。据估算，这套系统所需的费用应占总设备费用的三分之一左右。就此一项，采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产就可节省设备费三分之一左右。很显然，设备少，不仅可以节约投资，而且还减轻了操作人员的劳动强度。

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二氧化硅(SiO)单晶体，又称水晶，有天然人造两种。石英晶体一种重要电子材料。沿一定方向切割石英晶片，当受到机械应力作用时将产生与应力成正比电场或电荷，这种现象称为正压电效应。反之，当石英晶片受到电场作用时将产生与电场成正比应变，这种现象称为逆压电效应。正、逆两种效应合称为压电效应。石英晶体不仅具有压电效应，而且还具有优良机械特性、电学特性温度特性。用它设计制作谐振器、振荡器滤波器等，稳频选频方面都有突出优点。1880年法国P.居里发现石英晶体压电效应。直到第一次世界大战期间，石英晶体压电效应才得到应用。由于天然石英资源短缺，人们研究用人工方法进行培育。1905年意大利学者用水热温差法制造出合成人造石英。1960年美国西方电气公司建立了第一个人造石英工厂，人造石英进入工业化生产阶段。现代用水热温差法培育人造石英，质量已可与天然石英媲美，能满足电子技术需要。大气压力下，石英熔点为1750[618-1]。573[618-1]以下时称石英，属于三方晶系32点群；573～870[618-1]之间时称石英,属六方晶系622点群。石英石英都具有压电效应，但现代广泛使用石英，它密度为2.65克／厘米，莫氏硬度为7。理想石英晶体外形见图。它有一个三次旋转对称轴,三个互成120°夹角二次旋转对称轴,三次轴与二次轴垂直。晶轴与三次轴平行，晶轴、[kg1]则分别与三个二次轴平行。[kg1]轴与轴重合，轴与轴重合。

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我国石英行业从上世纪60年代开始起步，70年代逐渐发展形成较为完整的产业，到上世纪80年代后期，石英玻璃行业才得以迅速发展，技术根源日趋成熟，机械装备得到充分改进和完善，石英玻璃行业的发展出现新的局面。国内石英企业生产规模都较小，几十家企业当中年产值过亿元的只有两家，产值千万元以上的不超出10家。产品档次低，远远跟不上我国信息、微电子等高新技术产业快速发展的需求。发达国家均将石英玻璃作为新材料的重要组成部分，放在优先发展的地位并加以支持。我国也将石英玻璃列入了国家高新技术产业这次的重点支持对象。石英玻璃产业有了长足发展，微电子、信息、国防等支柱产业和战略性产业所需大量石英玻璃，目前国内产品的性能还远不能满足要求，大部分依靠进口供应。在微电子工业用超纯石英玻璃制品领域，德国劳氏公司已可生产40英寸超大直径的石英坩埚产品，纯度(13种杂质元素的总含量)可达2ppm，生产的大规格石英管直径可达500mm以上，纯度在10ppm以下，基本无波纹。在光纤用光波导级石英包层管领域，美国和德国生产的纯度较高，二氧化硅含量大于五个9，OH含量≤1ppm。而在航天技术用宇航级光学石英玻璃、激光技术用超纯合成石英玻璃领域，国外可做到直径750mm以上，杂质含量≤01ppm，满足光学级三个一类要求。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法的热能是被充分利用的，其生产过程没有反复升降温的现象，因此可以节能，而且节能的数字是相当可观的。采用传统的单项生产法生产多晶硅，还原料从鼓泡器里出来后被送进还原炉。在炉内还原料被加热到1150～1250℃，发生了氢还原反应，生成多晶硅。采用这种生产法，进入还原炉的还原料只有少数(一般认为10％～20％)参加反应，生成了多晶硅，绝大多数被当作尾气排放了。初，这些尾气被当成废气放掉，造成极大的浪费。为避免浪费，人们把尾气中的氢气和四氯化硅回收，经净化提纯后再利用。这样一来，出来的高温料，进入由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统回收。在回收系统里，还原料被冷冻降温至四氯化硅的沸点(57．6。C)之下，一般认为应在40～38℃为好。如按还原料在还原炉里的低限温度1150℃，降温后的上限温度40。C计算，也要降温1100℃。问题是，回收后4()℃的常温还原料要重新被送入鼓泡器里，然后通进还原炉，再次被加热到11501250。C的高温。从上述工艺中可以看出，进入还原炉被加热的大部分还原料(占进炉料9()％)没有被利用就被送出降温，而且降温后又被重新送入还原炉成为参加新一轮反应的还原料。很明显，这是一种浪费，没有参加反应的还原料按理说应该不加热。可问题是，在还原炉里，没有参加反应的还原料与参加反应的还原料是混在一起的，根本无法分开，如果没有参加反应的还原料不加热，那么，参加反应的还原料也无法加热。我们知道，参加反应的还原料温度低是无法进行化学反应的，也就无法生产出多晶硅。所以，如果采用传统的单项生产法生产多晶硅的话，上述浪费是不可避免的。

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中国建筑材料研究总院教授级高工石新勇、陈璐、王睿、吴洁、孙云蓉等专家撰写的《我国工业玻璃与特种玻璃标准体系现状分析及展望》文章指出：我国石英玻璃标准现状，该领域共有29项标准，产品标准20项(国家标准1项)，方法标准9项(国家标准5项)，另有4项新产品标准列入2008年行业标准制订计划。2008年是石英玻璃标准复审的高峰期，有12项标准得到修订。随着我国经济的快速发展，一些玻璃新品种、新技术已经形成和正在进行产业化，资源再生利用、节约能源、保护环境方面的产品日新月异，我国已开始对低温喷涂玻璃、无铅封接玻璃、防微波辐射玻璃、电磁屏蔽玻璃等产品进行科研研究和应用推广，计划根据进展情况，尽快将成熟的产品纳入标准。新产品的纳标，能够优化我国工业玻璃与特种玻璃品种结构。石英玻璃器件有三大类：第一类是石英玻璃仪器，有分馏提纯塔、纯水蒸馏塔、半导体工业用扩散管、试剂提纯设备、蒸发器等;第二类是石英玻璃器皿容器。品种和规格有几百种，用途很广，从化验室到半导体集成电路生产都要大量使用。第三类是石英玻璃型材，有板、片、法兰、棒、棍、杆等，主要用于大型芯片加工的单片机石英材料、光刻基片、光电显示器板、光纤拉丝用支撑杆等。石英玻璃器件产品占石英玻璃工业总产值的1/3以上。近年来石英玻璃行业在生产工艺技术装备，质量都有极大的提高。在石英玻璃器件加工方面有突出进步，在发展太阳能电池用石英器件方面有突破性进展，受到国内生产太阳能电池的大型企业、公司等先进企业确认，生产的石英器件完全满足要求，产品质量已达到国际先进水平。从相关产业的发展来看，我国石英玻璃仍将保持年平均15％～20％的增长速度。信息产业用石英玻璃的增长速度仍大于电光源用石英玻璃。