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石英玻璃的机械性能比硬质玻璃和陶瓷都好，唯脆性较差。石英玻璃的理论计算强度很高，约为24×103MPa，但实际测得的强度要比这个数值低数十倍。影响强度的主要因素首先是玻璃的表面缺陷，特别是表面微裂纹的大小及深度影响*为明显，细磨的石英玻璃试样比粗磨的试样，其抗折强度约增加0.6倍；其次是内在缺陷，例如，气泡、杂质、熔化不均以及残余应力等。石英玻璃的强度随着温度的升高而增加，接近退火温度时达到*大值。石英玻璃的剪切模量、杨氏模量、阻尼、泊松比、破坏模量一般均随着温度的升高而增加，硬度则随着温度的升高而降低。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法的热能是被充分利用的，其生产过程没有反复升降温的现象，因此可以节能，而且节能的数字是相当可观的。采用传统的单项生产法生产多晶硅，还原料从鼓泡器里出来后被送进还原炉。在炉内还原料被加热到1150～1250℃，发生了氢还原反应，生成多晶硅。采用这种生产法，进入还原炉的还原料只有少数(一般认为10％～20％)参加反应，生成了多晶硅，绝大多数被当作尾气排放了。初，这些尾气被当成废气放掉，造成极大的浪费。为避免浪费，人们把尾气中的氢气和四氯化硅回收，经净化提纯后再利用。这样一来，出来的高温料，进入由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统回收。在回收系统里，还原料被冷冻降温至四氯化硅的沸点(57．6。C)之下，一般认为应在40～38℃为好。如按还原料在还原炉里的低限温度1150℃，降温后的上限温度40。C计算，也要降温1100℃。问题是，回收后4()℃的常温还原料要重新被送入鼓泡器里，然后通进还原炉，再次被加热到11501250。C的高温。从上述工艺中可以看出，进入还原炉被加热的大部分还原料(占进炉料9()％)没有被利用就被送出降温，而且降温后又被重新送入还原炉成为参加新一轮反应的还原料。很明显，这是一种浪费，没有参加反应的还原料按理说应该不加热。可问题是，在还原炉里，没有参加反应的还原料与参加反应的还原料是混在一起的，根本无法分开，如果没有参加反应的还原料不加热，那么，参加反应的还原料也无法加热。我们知道，参加反应的还原料温度低是无法进行化学反应的，也就无法生产出多晶硅。所以，如果采用传统的单项生产法生产多晶硅的话，上述浪费是不可避免的。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产是连续的，设备是串联的，是将上一个产品的尾气或尾液作为下一个产品的原料，使本应作为废气排出的尾气得到了综合利用。因此，它不仅可以减少废气的排放量，而且还可以减轻对环境的污染。采用传统的单项生产法生产多晶硅，要放出尾气，即使有了由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统，也还是要排放出尾气，只不过，尾气的数量少得多。上述尾气是由没有参加反应的还原料与参加反应后产生的废气共同组成。没有参加反应的还原料主要是由氢气和四氯化硅组成；参加反应后产生的废气主要是氯化氢。氢气的排放不会对环境造成污染，可四氯化硅和氯化氢就不同了，它们都是有毒物质，会对环境造成严重的污染，是不可以直接排放到大气中的。四氯化硅是有强烈刺激性的物质，可以使人窒息。据说，在第二次世界大战时德国人曾经想把四氯化硅当作化学武器来使用，由此可以想像到它的危害有多大了。氯化氢气体的毒性也是相当大的，它遇水会变成三大强酸之一的盐酸，对人体、建筑物、设备、环境都有极大的危害。采用传统的单项生产法生产石英玻璃，也要排放出尾气。该尾气中也同样含有有毒的氯化氢，因此也同样会对环境造成危害。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法来生产多晶硅和石英玻璃，尾气问题就会解决了。多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产多晶硅的还原炉放出尾气没有直接放空，而是被直接送入制砣机里来生产石英玻璃。这样一来，生产多晶硅的尾气污染问题就会大大减轻了。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产石英玻璃，制砣机出来的尾气被送人尾气处理系统。该尾气处理系统可将制砣机放出来的尾气转变为稀盐酸和二氧化硅。二氧化硅是无害的，它的颗粒细小而且纯度极高，是高级的纳米级材料，其用途是比较广的。它不仅可以成为制药、制漆添加剂，而且还可以成为很多化工生产的原材料。稀盐酸是有害的，但可以把它回收，浓缩成为成品酸。成品盐酸也是重要的化工产品，用途广泛。稀盐酸也可以不回收，只要再加进一些碱，使其中和，危害就没有了，也就可以排放了。由此看来，采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法来生产多晶硅和石英玻璃，不仅可以减少废气的排放量，而且还可以减轻对环境的污染。

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石英玻璃的光学性能有其独到之处，它既可以透过远紫外光谱，是所有透紫外材料*优者，又可透过可见光和近红外光谱。用户可以根据需要，从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于石英玻璃耐高温，热膨胀系数*小，化学热稳定性好，气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美，所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。石英玻璃的结构，杂质含量，OH基因及NO、CO等含量是影响光谱透过率的主要因素，氧原子结合不良在0.24μ处则有吸收峰，含有OH基团的石英玻璃，在2.7μ处由于分子振动将产生明显的吸收峰，紫外透过率低主要是由于金属杂质多造成原子吸收光谱所致。电熔石英玻璃是很好的透红外材料，但由于杂质的存在，紫外透过率低。氢氧焰熔制水晶所获得的石英玻璃，由于氧结构缺陷，在0.24μ处有吸收峰，同时含有OH基团，所以红外透过*低。用合成原料气炼的高纯光学石英玻璃是*好的透紫外材料，但在2.7μ处有严重的OH吸收峰。只有用合成原料通过电熔或无氢火焰熔融而成的光学石英玻璃，才能很好地透过从远紫外到近红外的连续光谱。