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我国石英玻璃研究始于1957年，在中华人民共和国成立之前是空白。1956年国家制定12年科技发展规划，要求发展国防急需的57项重要研究任务，解决二弹一星用的新型高性能材料，为研究原子弹、导弹、人造卫星做好物质准备。石英玻璃是第26项和第40项任务书中指定要研究的内容，任务是下达给当时的国家建筑材料综合研究所。我国石英玻璃的发展大体可分为5个阶段：1957—1961年为开创阶段，以研究工艺制造方法为主；1962—1966年为形成产业阶段，在此期间完成很多军工任务，民品产量和质量也有很大提高，已初步形成产业；1978—1988年为改革创新时期，高新技术用石英玻璃，如：大规模集成电路用高纯耐高温石英玻璃管、高纯涂层坩埚、电弧法坩埚、光通信用石英玻璃、激光用石英玻璃等都是这一时期研究并大量生产的；1989—2000年为引进国外先进技术、技术创新、增加品种和产量等大发展时期，*为突出的是东海县发展成为电光源用石英玻璃生产基地，年产石英玻璃达6000吨（其中优*质品2000余吨），质量*大的提高，成本几倍的下降，技术装备显著的改进。40余年来，石英玻璃的发展速度比较快，以生产透明石英玻璃管为例：1975年产量172吨，31个工厂需要用60多台电阻炉生产，管子质量很差（相当于现在的废品管），现在2台连熔炉就可以年生产近200吨，到2000年，透明石英玻璃管的年产量达7000吨（其中优*质产品达3500吨），25年增长了近40倍。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产可以省掉一些设备，从而可以节约投资，并可减轻操作人员的劳动强度。采用传统的单项生产法生产多晶硅，需要有一台四氯化硅合成炉和一套四氯化硅提纯系统。采用传统的单项生产法生产石英玻璃，同样需要有一台四氯化硅合成炉和一套四氯化硅提纯系统。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产四氯化硅和多晶硅，上述设备是合一的，从设备数量上看，多晶硅和石英玻璃的联合制备法比传统的单项生产法减少一半。只是设备要大一些，但单个设备的投资增加不会太多。比如四氯化硅合成炉，它的直径加大一倍，它的产量就可以增加四倍。四氯化硅提纯系统里的设备也同样，尺寸增加一点，产量就会增加很多。采用传统的单项生产法生产多晶硅和采用传统的单项生产法生产石英玻璃都同样需要有一套由冷冻除湿、除氧、干燥组成的氢气净化系统和一个鼓泡器。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产，这些设备也是合一的。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产比单项生产法节省多的地方还不在于此。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产比单项生产法节省多的地方还不在于此。采用传统的单项生产法生产多晶硅，需要一套由冷冻分离器和氢气回收系统组成的回收系统，而采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产就不需要这套回收系统。这套系统是由科技含量高、造价高的成套设备组成的。我们知道，家用的冰箱的低温只有摄氏零下十几度，一般的冷库的低温也只有摄氏零下三十几度，可这套系统所用的冷冻温度要到摄氏零下八十几度，甚至更低；家用的冰箱只是单级压缩，要求深冷的冷库也只有双级压缩，而这套系统所用的冷冻机是复叠式的，是在双级之上再加了一级压缩的，而且组合方式也是特别的。据估算，这套系统所需的费用应占总设备费用的三分之一左右。就此一项，采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产就可节省设备费三分之一左右。很显然，设备少，不仅可以节约投资，而且还减轻了操作人员的劳动强度。

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清洗槽内如有氢氟酸溶液，需要在溶液不脏的时候可再加10瓶氢氟酸往里灌入；如氢氟酸溶液非常脏，那么需要先排空并洗干净槽部，槽没有的氢氟酸溶液的洗净槽后进行配液。清洁时注意戴好护目镜及防酸手套护具，把要清洗的石英管放入石英管清洗机里面的槽管口方向朝制绒间它的管尾部向扩散炉的方向。拉下机器防护门，清洗时间定为30分钟即可，之后按下启动键开始清洁。清洗时间到了以后戴上护目镜戴上防酸手套再从酸槽中取出石英管轻轻放到水槽，水槽的水排空再用水枪冲洗石英管内外均匀喷至4分钟左右，冲洗石英管里面时不要按启动键，如果是启动状态请立即关闭。用水枪清洗石英管管口要从内向尾部方向冲洗石英管的内壁一定要认真仔细的操作清洗干净不留残渣。每隔两分钟石英管旋转180度冲洗后再次旋转直到完全清洗干净为止。往水槽里加水水位没过石英管尾中间部分即可水槽清洗时间在30分钟左右即可。时间到了以后要把水槽内的水排干净。然后接着重复上面方法冲洗操作一定要没有任何残留物质颗粒清洗干净。再用泡沫纸包住管口管尾用铝箔堵住密封好即可。比较新的石英管清洗30分钟左右就行那么是用过的石英管则因将管内壁上沾附的白色的五氧化二磷完全脱落才可以。用过的管子清洗时间有的要一两天才可以。酸槽机器没有启动的时候隔两小时要把石英管旋转180度这样操作会清洁的更加均匀干净。

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石英玻璃的光学性能有其独到之处，它既可以透过远紫外光谱，是所有透紫外材料*优者，又可透过可见光和近红外光谱。用户可以根据需要，从185-3500mμ波段范围内任意选择所需品种。由于石英玻璃耐高温，热膨胀系数*小，化学热稳定性好，气泡、条纹、均匀性、双折射又可与一般光学玻璃媲美，所以它是在各种恶劣场合下工作具有高稳定度光学系统的必不可少的光学材料。石英玻璃的结构，杂质含量，OH基因及NO、CO等含量是影响光谱透过率的主要因素，氧原子结合不良在0.24μ处则有吸收峰，含有OH基团的石英玻璃，在2.7μ处由于分子振动将产生明显的吸收峰，紫外透过率低主要是由于金属杂质多造成原子吸收光谱所致。电熔石英玻璃是很好的透红外材料，但由于杂质的存在，紫外透过率低。氢氧焰熔制水晶所获得的石英玻璃，由于氧结构缺陷，在0.24μ处有吸收峰，同时含有OH基团，所以红外透过*低。用合成原料气炼的高纯光学石英玻璃是*好的透紫外材料，但在2.7μ处有严重的OH吸收峰。只有用合成原料通过电熔或无氢火焰熔融而成的光学石英玻璃，才能很好地透过从远紫外到近红外的连续光谱。