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石英玻璃是二氧化硅单一成分的非晶态材料，其微观结构是一种由二氧化硅四面结构体结构单元组成的单纯网络，由于Si-O化学键能很大，结构很紧密，所以石英玻璃具有独特的性能，尤其透明石英玻璃的光学性能非常优异，在紫外到红外辐射的连续波长范围都有优良的透射比。石英玻璃采用高纯度的硅砂作为原料，制作的传统方法是熔融-淬灭方法（加热材料到熔化温度，然后快速冷却到玻璃的固态相）；制作高纯度和紫外透射比的透明玻璃需硅的汽化、氧化成二氧化硅并加热溶解等过程。石英玻璃的形成是由于其熔体高温黏度很高引起的结果。用于制作半导体、电光源器、半导通信装置、激光器，光学仪器，实验室仪器、电学设备、医疗设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器、化工、电子、冶金、建材以及国防等工业，应用十分广泛。高纯石英玻璃可制光导纤维。随着半导体技术的发展，石英玻璃被广泛的用于半导体生产的各项工序中。比如，直拉法把多晶转化成单晶硅；清洗时用的清洗槽；扩散时用的扩散管、刻槽舟；离子注入时用的钟罩等等。

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目前传统的石英制备方法有电熔法、气炼法、直接合成法、间接合成法、等离子化学气相沉积和溶胶凝胶法等。其中电熔和气炼方法是指使用天然结晶石英（水晶或者纯的硅石）经过熔融制成石英；而剩余四种均为合成法，是通过硅化物（SiCl4）经过化学气相沉积制成石英。石英因制备方法的不同，在SiO2纯度、羟基含量等指标上表现不同，从而导致不同的材料特性。电熔法即是石英原料在真空（5×10－2mmHg）或低压惰性（N2）介质中电熔。气炼法是采用氢氧焰或其它碳氢化物（乙炔）等可燃气体产生高热来熔化物料。由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。间接合成使用的原料也是SiCl4，H2和O2气体，但该方法先让SiO2微粒堆积成棒，所得的棒为多孔质且不透明结构，经烧结后可制成透明的玻璃棒。等离子法也是合成不含-OH的石英的方法之一。利用由高频电磁场的感应耦合作用而产生等离子体灯炬，内核温度高达15000K，熔料被融化。

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高纯度石英制品是半导体材料生产过程中的关键性辅助耗材，其中光掩膜基板主要的基础材料是高纯石英玻璃片，其石英玻璃基片前身是高品质石英锭。半导体产业技术门槛高，对石英制品的纯度及性能要求非常高，所以半导体用石英制品行业的技术水平也非常高。半导体设备制造商为了保证半导体的质量和性能，对石英玻璃供应商实施严格的资质认证，通过认证方可销售半导体石英原材料。美国、德国、日本等发达国家将这些高新技术与战略新兴产业的研究列为重*点，垄断了高*端石英产品生产技术，并限制产品和技术出口，为我国半导体企业的发展带来一些困难，但是同时也是一个发展机遇。结合国内外的发展趋势及我国石英产业存在的问题，包括“十三五”提出全*面加快战略性新兴产业的发展，所以要急需提升我国石英玻璃原材料的技术与装备水平、扩大电子信息产业用高*档石英玻璃原材料的产能，打破国外技术垄断，扭转当前主要依赖进口的局面。

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广义的石英还包括高温石英和柯石英等。石英是主要造岩矿物之一，一般指低温石英，是石英族矿物中分布比较广的一个矿物。硬度7，无解理，贝壳状断口。比重2.65。纯净的石英无色透明，因含微量色素离子或细分散包裹体，或存在色心而呈各种颜色，并使透明度降低。具压电性。石英是由二氧化硅组成的矿物，化学式SiO2。石英块又名硅石，主要是出产石英砂的原料，也是石英耐火材料和烧制硅铁的原料。具玻璃光泽，断口呈油脂光泽。主要成分是SiO2，无色透明，常含有少量杂质成分，而变为半透明或不透明的晶体，质地坚硬。石英是一种物理性质和化学性质均十分不乱的矿产资源，晶体属三方晶系的氧化物矿物。

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熔融石英和熔凝石英的纯度非常高，合成石英的金属含量小于1ppm。熔凝石英杂质接近20ppm，主要污染物组成AL2O3，少部分碱金属，Fe2O3 TiO2 mGo ZrO2金属杂质主要来自于天然石英，非常谨慎的控制加工过程，可以*大的降低杂质含量，从200ppm 到 20ppm铝是*多的杂质，取代硅原子，在石英玻璃里存在。在高温条件下，他具有很低的活性，导致在任何生产阶段都不可能去除。除了有金属杂质，熔融石英和熔凝石英也包含一些水分羟基，羟基进入石英的网格中会降低石英的粘性，因此价格低石英的耐温点。其他的物理特性也会受到影响，如光的透过率，红外波段形成吸收带每一种工艺的都有其典型的羟基含量电熔羟基值*低1-30ppm 因为在真空条件下榕湖或者在负气压条件下熔化。退火时，湿度也可以影响羟基含量气炼石英含有大量的羟基，因为气炼石英使用氢氧焰熔化合成石英是通过火焰水解化学物质羟基含量大于1000ppm降低合成石英的羟基可以通过高温氯化处理。