湖州市透明紫外线消毒灯定做

1 、石英管软化的软化点为1270度，在1200度使用时不要超过3小时。2 、本管式炉一般情况下不建议客户通氢气，除通非氢气含量在*限爆炸浓度以外，如果客户需要用管式炉通浓度在爆炸浓度以外的氢气，一定要做好安*全措施，通气体时炉管两端不要站人，如果通氢气请采用不锈钢管，由于不锈钢的热传导系数比石英大，因此不锈钢两端需要水冷，否则O型圈温度过高无法密封， 3、 保持炉管内清洁卫生，炉管内不能残留与SiO2反应的物质，烧物料时，为了使炉管的使用寿命更长，不要直接把物料放在炉管上，用舟型坩埚盛着（如下图所示）。4 、加热时炉管内请务必放陶瓷炉塞，否则炉管两端温度较高，法兰里的O型圈无法承受较高的温度，使得气密性不好，放炉塞与炉子的两端有利于形成均衡的温场。 5 、加热时炉管内请务必放氧化铝炉塞，一边放2个，共4个，两边炉塞zui里端距离可以在450mm左右（因为HTL1200对开式管式炉的加热段长度为400mm），如果不放炉塞，炉管两端温度较高，法兰里的O型圈无法承受较高的温度，使得气密性不好，炉管两端放上炉塞有利于形成均衡的温场。6 、石英管的耐温度与其纯度有关系，纯度越高，耐温就越高。

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石英玻璃是二氧化硅单一成分的非晶态材料，其微观结构是一种由二氧化硅四面结构体结构单元组成的单纯网络，由于Si-O化学键能很大，结构很紧密，所以石英玻璃具有独特的性能，尤其透明石英玻璃的光学性能非常优异，在紫外到红外辐射的连续波长范围都有优良的透射比。石英玻璃采用高纯度的硅砂作为原料，制作的传统方法是熔融-淬灭方法（加热材料到熔化温度，然后快速冷却到玻璃的固态相）；制作高纯度和紫外透射比的透明玻璃需硅的汽化、氧化成二氧化硅并加热溶解等过程。石英玻璃的形成是由于其熔体高温黏度很高引起的结果。用于制作半导体、电光源器、半导通信装置、激光器，光学仪器，实验室仪器、电学设备、医疗设备和耐高温耐腐蚀的化学仪器、化工、电子、冶金、建材以及国防等工业，应用十分广泛。高纯石英玻璃可制光导纤维。随着半导体技术的发展，石英玻璃被广泛的用于半导体生产的各项工序中。比如，直拉法把多晶转化成单晶硅；清洗时用的清洗槽；扩散时用的扩散管、刻槽舟；离子注入时用的钟罩等等。

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多晶硅是电子工业的基础材料。由于采用传统的单项生产法生产多晶硅，需要付出资源和环境的极大代价。过大的代价制约了多晶硅的生产发展。目前，由于多晶硅短缺，迫使一些电子工业厂家减产，甚至停业。很显然，多晶硅已经成为当前电子工业发展的瓶颈，阻碍了电子工业的发展。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产多晶硅，代价会减少，从而促进多晶硅的发展，电子工业材料(多晶硅)的瓶颈问题也就因此得以解决。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产是连续的，设备是串联的，是将上一个产品的尾气或尾液作为下一个产品的原料，使本应作为废气排出的尾气得到了综合利用。因此，它不仅可以减少废气的排放量，而且还可以减轻对环境的污染。采用传统的单项生产法生产多晶硅，要放出尾气，即使有了由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统，也还是要排放出尾气，只不过，尾气的数量少得多。上述尾气是由没有参加反应的还原料与参加反应后产生的废气共同组成。没有参加反应的还原料主要是由氢气和四氯化硅组成；参加反应后产生的废气主要是氯化氢。氢气的排放不会对环境造成污染，可四氯化硅和氯化氢就不同了，它们都是有毒物质，会对环境造成严重的污染，是不可以直接排放到大气中的。四氯化硅是有强烈刺激性的物质，可以使人窒息。据说，在第二次世界大战时德国人曾经想把四氯化硅当作化学武器来使用，由此可以想像到它的危害有多大了。氯化氢气体的毒性也是相当大的，它遇水会变成三大强酸之一的盐酸，对人体、建筑物、设备、环境都有极大的危害。采用传统的单项生产法生产石英玻璃，也要排放出尾气。该尾气中也同样含有有毒的氯化氢，因此也同样会对环境造成危害。如果采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法来生产多晶硅和石英玻璃，尾气问题就会解决了。多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产多晶硅的还原炉放出尾气没有直接放空，而是被直接送入制砣机里来生产石英玻璃。这样一来，生产多晶硅的尾气污染问题就会大大减轻了。采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法生产石英玻璃，制砣机出来的尾气被送人尾气处理系统。该尾气处理系统可将制砣机放出来的尾气转变为稀盐酸和二氧化硅。二氧化硅是无害的，它的颗粒细小而且纯度极高，是高级的纳米级材料，其用途是比较广的。它不仅可以成为制药、制漆添加剂，而且还可以成为很多化工生产的原材料。稀盐酸是有害的，但可以把它回收，浓缩成为成品酸。成品盐酸也是重要的化工产品，用途广泛。稀盐酸也可以不回收，只要再加进一些碱，使其中和，危害就没有了，也就可以排放了。由此看来，采用多晶硅和石英玻璃的联合制备法来生产多晶硅和石英玻璃，不仅可以减少废气的排放量，而且还可以减轻对环境的污染。

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目前传统的石英制备方法有电熔法、气炼法、直接合成法、间接合成法、等离子化学气相沉积和溶胶凝胶法等。其中电熔和气炼方法是指使用天然结晶石英（水晶或者纯的硅石）经过熔融制成石英；而剩余四种均为合成法，是通过硅化物（SiCl4）经过化学气相沉积制成石英。石英因制备方法的不同，在SiO2纯度、羟基含量等指标上表现不同，从而导致不同的材料特性。电熔法即是石英原料在真空（5×10－2mmHg）或低压惰性（N2）介质中电熔。气炼法是采用氢氧焰或其它碳氢化物（乙炔）等可燃气体产生高热来熔化物料。由于是水解过程制备，石英含有较多的水分，羟基（OH-）大约为500-1500ppm，并含有溶解在玻璃结构中的H2。因为羟基的存在，玻璃的耐热性变差，且对红外区域吸收能力较强，该类玻璃不适合应用于半导体的热处理器材以及光纤。但是由于羟基的存在，玻璃的紫外光透过率高，且能长时间的接受紫外激光的照射，所以适用于做光刻掩膜版的基板和激光光刻系统内的光学透镜。间接合成使用的原料也是SiCl4，H2和O2气体，但该方法先让SiO2微粒堆积成棒，所得的棒为多孔质且不透明结构，经烧结后可制成透明的玻璃棒。等离子法也是合成不含-OH的石英的方法之一。利用由高频电磁场的感应耦合作用而产生等离子体灯炬，内核温度高达15000K，熔料被融化。