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（ 拉 丝 法 ） GBn 226-84：本 标 准 适 用 于 透 明 石 英 玻 璃 退 火 点 的 测 试 。1 试 样 的 制 备1.1 取 直 径 为 10+1 mm， 长 约 200mm以 上 、 无 气 孔 、 无 气 线 的 石 英 玻 璃 棒 1根 ， 经 无 水 乙 醇 净 化 处 理 后 ， 用 石 英 玻 璃 拉 丝 机 拉 丝 。 拉 丝 速 度 应 保 持 在 3.5+0.5m/min间 。 同 时 按 等 体 积 原 理 算 出 合 适 的 下 棒 速 度 ， 使 拉 成 丝 条 的 标 称 直 径 为 0.55mm， 公 差 为 +0.01mm.1.2 选 取 长 为 320mm的 丝 条 10根 ， 将 丝 条 两 端 烧 成 直 径 为 2mm左 右 的 小 球 ， 球 心 应 与 丝 条 轴 线 相 合 。 烧 球 后 的 试 样 长 度 应 在 305mm以 上 （不 包 括 小 球 ）。

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我国石英玻璃研究始于1957年，在中华人民共和国成立之前是空白。1956年国家制定12年科技发展规划，要求发展国防急需的57项重要研究任务，解决二弹一星用的新型高性能材料，为研究原子弹、导弹、人造卫星做好物质准备。石英玻璃是第26项和第40项任务书中指定要研究的内容，任务是下达给当时的国家建筑材料综合研究所。我国石英玻璃的发展大体可分为5个阶段：1957—1961年为开创阶段，以研究工艺制造方法为主；1962—1966年为形成产业阶段，在此期间完成很多军工任务，民品产量和质量也有很大提高，已初步形成产业；1978—1988年为改革创新时期，高新技术用石英玻璃，如：大规模集成电路用高纯耐高温石英玻璃管、高纯涂层坩埚、电弧法坩埚、光通信用石英玻璃、激光用石英玻璃等都是这一时期研究并大量生产的；1989—2000年为引进国外先进技术、技术创新、增加品种和产量等大发展时期，*为突出的是东海县发展成为电光源用石英玻璃生产基地，年产石英玻璃达6000吨（其中优*质品2000余吨），质量*大的提高，成本几倍的下降，技术装备显著的改进。40余年来，石英玻璃的发展速度比较快，以生产透明石英玻璃管为例：1975年产量172吨，31个工厂需要用60多台电阻炉生产，管子质量很差（相当于现在的废品管），现在2台连熔炉就可以年生产近200吨，到2000年，透明石英玻璃管的年产量达7000吨（其中优*质产品达3500吨），25年增长了近40倍。

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高纯度石英制品是半导体材料生产过程中的关键性辅助耗材，其中光掩膜基板主要的基础材料是高纯石英玻璃片，其石英玻璃基片前身是高品质石英锭。半导体产业技术门槛高，对石英制品的纯度及性能要求非常高，所以半导体用石英制品行业的技术水平也非常高。半导体设备制造商为了保证半导体的质量和性能，对石英玻璃供应商实施严格的资质认证，通过认证方可销售半导体石英原材料。美国、德国、日本等发达国家将这些高新技术与战略新兴产业的研究列为重*点，垄断了高*端石英产品生产技术，并限制产品和技术出口，为我国半导体企业的发展带来一些困难，但是同时也是一个发展机遇。结合国内外的发展趋势及我国石英产业存在的问题，包括“十三五”提出全*面加快战略性新兴产业的发展，所以要急需提升我国石英玻璃原材料的技术与装备水平、扩大电子信息产业用高*档石英玻璃原材料的产能，打破国外技术垄断，扭转当前主要依赖进口的局面。

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清洗槽内如有氢氟酸溶液，需要在溶液不脏的时候可再加10瓶氢氟酸往里灌入；如氢氟酸溶液非常脏，那么需要先排空并洗干净槽部，槽没有的氢氟酸溶液的洗净槽后进行配液。清洁时注意戴好护目镜及防酸手套护具，把要清洗的石英管放入石英管清洗机里面的槽管口方向朝制绒间它的管尾部向扩散炉的方向。拉下机器防护门，清洗时间定为30分钟即可，之后按下启动键开始清洁。清洗时间到了以后戴上护目镜戴上防酸手套再从酸槽中取出石英管轻轻放到水槽，水槽的水排空再用水枪冲洗石英管内外均匀喷至4分钟左右，冲洗石英管里面时不要按启动键，如果是启动状态请立即关闭。用水枪清洗石英管管口要从内向尾部方向冲洗石英管的内壁一定要认真仔细的操作清洗干净不留残渣。每隔两分钟石英管旋转180度冲洗后再次旋转直到完全清洗干净为止。往水槽里加水水位没过石英管尾中间部分即可水槽清洗时间在30分钟左右即可。时间到了以后要把水槽内的水排干净。然后接着重复上面方法冲洗操作一定要没有任何残留物质颗粒清洗干净。再用泡沫纸包住管口管尾用铝箔堵住密封好即可。比较新的石英管清洗30分钟左右就行那么是用过的石英管则因将管内壁上沾附的白色的五氧化二磷完全脱落才可以。用过的管子清洗时间有的要一两天才可以。酸槽机器没有启动的时候隔两小时要把石英管旋转180度这样操作会清洁的更加均匀干净。

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多晶硅和石英玻璃的联合制备法的热能是被充分利用的，其生产过程没有反复升降温的现象，因此可以节能，而且节能的数字是相当可观的。采用传统的单项生产法生产多晶硅，还原料从鼓泡器里出来后被送进还原炉。在炉内还原料被加热到1150～1250℃，发生了氢还原反应，生成多晶硅。采用这种生产法，进入还原炉的还原料只有少数(一般认为10％～20％)参加反应，生成了多晶硅，绝大多数被当作尾气排放了。初，这些尾气被当成废气放掉，造成极大的浪费。为避免浪费，人们把尾气中的氢气和四氯化硅回收，经净化提纯后再利用。这样一来，出来的高温料，进入由冷冻分离器和氢气回收组成的回收系统回收。在回收系统里，还原料被冷冻降温至四氯化硅的沸点(57．6。C)之下，一般认为应在40～38℃为好。如按还原料在还原炉里的低限温度1150℃，降温后的上限温度40。C计算，也要降温1100℃。问题是，回收后4()℃的常温还原料要重新被送入鼓泡器里，然后通进还原炉，再次被加热到11501250。C的高温。从上述工艺中可以看出，进入还原炉被加热的大部分还原料(占进炉料9()％)没有被利用就被送出降温，而且降温后又被重新送入还原炉成为参加新一轮反应的还原料。很明显，这是一种浪费，没有参加反应的还原料按理说应该不加热。可问题是，在还原炉里，没有参加反应的还原料与参加反应的还原料是混在一起的，根本无法分开，如果没有参加反应的还原料不加热，那么，参加反应的还原料也无法加热。我们知道，参加反应的还原料温度低是无法进行化学反应的，也就无法生产出多晶硅。所以，如果采用传统的单项生产法生产多晶硅的话，上述浪费是不可避免的。

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石英玻璃主要用于电光源，半导体，光学新技术等方面。新型光源方面：做高压水银灯、长弧氙灯、碘钨灯、碘化铊灯、红外线灯和杀菌灯等。半导体方面：是半导体材料和器件生产过程中不可缺少的材料，如生长锗，硅单晶的坩埚、舟皿炉芯管和钟罩等。在新技术领域中：用其声、光、电学的上佳性能、做雷达上的超声延迟线，红外跟踪测向，红外照相、通迅、摄谱仪、分光光度计的棱镜，透镜、大型天文望远镜的反射窗，高温作业窗、反应堆、放射性装置；火箭，导弹的鼻锥体，喷嘴和天线罩：人造卫星的无线电绝缘零件，辐射；热天秤，真空吸附装置，精*密铸造等。石英玻璃还用于：化工、冶金、电工、科研等方面在化工方面：可做高温耐酸性气体的燃烧、冷却的和通风装置，酸性溶液的蒸发，冷却吸物收，贮存装置,蒸馏水,盐酸、硝酸、硫酸等的制备和其它物理化学实验用品。在高温业作方面：可做光学玻璃的，坩埚成萤光体客气，电炉炉芯管，气体燃烧辐射体，在光学方面：石英玻璃和石英玻璃棉可作火箭的喷咀，宇宙飞船防热罩和观察窗等，总之，随着现代科学技术的发展，石英玻璃在各个领域方面得到更加广泛的应用。